Spezielle Anforderungen bei der Inspektion von Wafern
Bei der Halbleiterproduktion spielt die optische Waferinspektion eine entscheidende Rolle, um Mikrochips mit makelloser Qualität herzustellen. Dafür werden unter anderem optische Systeme eingesetzt, um Kratzer, Defekte oder Partikel zu detektieren.
Die Anforderungen an das Kamerasystem, das dabei eingesetzt wird, ist sehr anspruchsvoll. Es wird eine Hohe Auflösung benötigt, um kleine Defekte im Mikrometerbereich zu sehen, eine spezielle Beleuchtung, da das Material oft sehr glänzend ist, hohe Verarbeitungsgeschwindigkeit, und mehrfache Kalibrierdaten, da die Oberflächenbeschaffenheit der Wafer sehr unterschiedlich ist. Sehr oft ist auch noch Platzmangel ein Problem, da das Inspektionssystem in bestehende Anlagen eingebaut werden soll.
Tichawa Vision hat einen Contact Image Sensor speziell für die Waferinspektion entwickelt: Der Sensor verfügt über eine Auflösung von 1200dpi, koaxiale Beleuchtung, lückenlose Bildaufnahme bei einer Bauhöhe von nur 110mm. Die Speicherung und Abruf von mehreren Kalibrierdatensätzen ermöglicht den schnellen Wechsel zwischen unterschiedlichen Wafer Typen.